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为X射线多层镜片设计的代理撰写的沉积配方：结合模式的LLM控制磁控溅射系统，并通过反射率验证结果

X射线的多层镜片需要层周期控制在约0.1纳米，这一数值由实验室自身笔记本中记录的沉积速率决定。一个监督模型会话为大型语言模型代理提供了一个多层镜片的特定规格和从实验室获得的校准常数

作者:Oleksiy V. Penkov, Haoyu Fu, Yueying Zhan · 语言:en

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