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对大型语言模型水印的统一攻击：未经授权的知识蒸馏中的伪装与清除

水印技术已成为对抗虚假信息和保护大型语言模型（LLMs）知识产权的关键技术。一项近期发现——水印放射性揭示，嵌入在教师模型中的水印可以通过知识继承被学生模型继承

作者:Xin Yi, Yue Li, Shunfan Zheng · 语言:en

简介